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化学蚀刻辅助飞秒激光在硅上制备均一度高和尺寸可控的纳米颗粒

发布:HPLlaser    |    2019-05-22 10:04    阅?#31890;?75
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飞秒激光直写技术在表面周期结构处理中得?#28966;?#27867;应用。?#27426;?#35813;技术仍然面临获得高表面均一度和形态可控性的挑战。本文提出了一种灵活而有效的方法,即通过化学蚀刻辅助飞秒激光在硅上制备均一度高和尺寸可控的纳米颗粒。当在Si样?#39134;?#37319;用飞秒激光扫描时,实验通过精确地操纵激光与材料相互作用过程,在材料上实现交替的非晶态和结晶态,且几乎没有材料被去除。在化学蚀刻处理后,可以获得高度均匀的纳米颗粒结构,并且通过精确控制蚀刻工艺的处理时间,可以灵活地管理纳米颗粒的形态。利用本文的方法,在样品表面上可以容易地实?#24535;?#26377;在室内光照射下可见的结构着色以?#26696;?#26434;的图案。此外,与传统的激光诱导周期性表面结构方法相比,本文的制造效?#23454;?#21040;显著提高。此加工程序在光学,纳米电子学和机电一体化领域具有潜在的应用价值。

通过化学蚀刻辅助飞秒激光制造的“BIT”形大面积纳米结构

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