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 基于超精密激光直写系统制作二维光栅

李民康 向显嵩 周常河 韦春龙 贾伟 项长铖 鲁云开 朱世曜

[摘要]二维光栅是光刻机光栅尺系统的核心元件。搭建了超精密激光直写系统,基于二维超精密工件台,通过旋转基片90°进行两次曝光,制作出栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模。原子力显微镜和扫描电?#21040;?#26524;表明,所制作的...

 PDF全文光学学报 | 2019, 39(09):0905001

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